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Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A避免光路偏移 Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A避免光路偏移元件表面采用研磨（geschliffen）加工，表面粗糙度Rq 2µm，可满足高精度抛光前的基础表面要求，同时在无需超高光滑表面的紫外窗口、激光传输元件中可直接使用。研磨表面具备均匀的微观结构，无划痕、无凹坑、无破损，可保证光学性能稳定；

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更新日期
2026-08-31

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125
Hellma氟化钙CaF₂单晶光学圆片技术参数 Hellma氟化钙CaF₂单晶光学圆片技术参数 Hellma作为*精密光学元件、光谱分析耗材龙头制造商，依托成熟的晶体生长、精密光学加工与标准化质控体系，大量生产氟化钙单晶光学元件，广泛应用于真空紫外、深紫外光谱分析、红外光谱检测、光学窗口、激光系统、气体分析仪器等领域。本次介绍的CaF₂单晶光学圆片，严格遵循HMAT企业材料标准，采用(111)晶向氟化钙单晶制造，目标适用波长248nm，外形规

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更新日期
2026-07-28

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03
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241
Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A高纯度原料 Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A高纯度原料 LD-A高等级质量控制，低缺陷、高激光损伤阈值 Hellma LD-A是氟化钙材料中的高等级光学品，代表极低缺陷密度、高纯度、高结构完整性。材料生产过程中采用超高纯度原材料、真空单晶生长工艺、长时间高温退火、精密应力消除、缺陷检测筛选等全流程质量控制，将内部气泡、夹杂、位错、孪晶、散射点等缺陷控制在检测极限以下。

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更新日期
2026-04-24

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Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂用于航空航天 Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂用于航空航天航空航天行业：深紫外星载光学系统棱镜应用场景：某航天院所的星载深紫外光谱仪，用于探测大气层中的臭氧、气溶胶等成分，工作环境为太空温度（-80℃~+120℃）、高真空、强辐射，要求棱镜具备超高的温度稳定性与抗辐射性能。应用方案：选用Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）制备光谱仪的色散棱镜，晶体经深冷退火处理，温度稳定性优化；表面

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更新日期
2026-02-09

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经销商

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407

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